Structural features and nitrogen positions in titanium oxynitride films grown in plasma of magnetron discharge

V. F. Pichugin, A. A. Pustovalova, K. E. Evdokimov, M. E. Konishchev, O. S. Kuzmin, E. L. Boytsova, Nataliia Beshchasna, Anton Ficai, D. M. Aubakirova, Zhilei Sun

Результат исследований: Материалы для журнала

1 Цитирования (Scopus)

Аннотация

The paper addresses the results of the analysis of the structural features of nitrogen-containing titanium oxides films, deposited by reactive magnetron sputtering. The films have a nanocrystalline two-phase structure and consist of anatase and rutile crystallites, regardless of the coating deposition regimes. No traces of titanium nitride phase are found in the film and nitrogen atoms in oxide form are localized at the grain boundaries of the deposited film.

Язык оригиналаАнглийский
Номер статьи012062
ЖурналJournal of Physics: Conference Series
Том1281
Номер выпуска1
DOI
СостояниеОпубликовано - 12 авг 2019
Событие14th International Conference on Films and Coatings, ICFC 2019 - Saint Petersburg, Российская Федерация
Продолжительность: 14 мая 201916 мая 2019

ASJC Scopus subject areas

  • Physics and Astronomy(all)

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Structural features and nitrogen positions in titanium oxynitride films grown in plasma of magnetron discharge». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

  • Цитировать