Structural changes of titanium dioxide thin films deposited by reactive magnetron sputtering through nitrogen incorporation

Alla Pustovalova, Nina Ivanova

Результат исследований: Материалы для книги/типы отчетовМатериалы для конференции

5 Цитирования (Scopus)

Аннотация

This paper presents the results of the studies of the structure and chemical composition of nitrogen-doped titanium dioxide thin films obtained by reactive magnetron sputtering deposition. The XRD data show the changes of the structure and phase composition of titanium dioxide thin films due to the nitrogen doping. The change of the films structure increases with the growth of the nitrogen content. The reduction of crystallites size takes place at the increase of the nitrogen concentration. Chemical bonds present in the films were examined by FTIR spectroscopy.

Язык оригиналаАнглийский
Название основной публикацииMultifunctional Materials
Подзаголовок основной публикацииDevelopment and Application
РедакторыIrina Kurzina, Anna Godymchuk
ИздательTrans Tech Publications Ltd
Страницы383-388
Число страниц6
ISBN (печатное издание)9783038357292
DOI
СостояниеОпубликовано - 1 янв 2016
Событие12th International Conference on Prospects of Fundamental Sciences Development, PFSD 2015 - Tomsk, Российская Федерация
Продолжительность: 21 апр 201524 апр 2015

Серия публикаций

НазваниеKey Engineering Materials
Том683
ISSN (печатное издание)1013-9826

Конференция

Конференция12th International Conference on Prospects of Fundamental Sciences Development, PFSD 2015
СтранаРоссийская Федерация
ГородTomsk
Период21.4.1524.4.15

ASJC Scopus subject areas

  • Materials Science(all)
  • Mechanics of Materials
  • Mechanical Engineering

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Structural changes of titanium dioxide thin films deposited by reactive magnetron sputtering through nitrogen incorporation». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

  • Цитировать

    Pustovalova, A., & Ivanova, N. (2016). Structural changes of titanium dioxide thin films deposited by reactive magnetron sputtering through nitrogen incorporation. В I. Kurzina, & A. Godymchuk (Ред.), Multifunctional Materials: Development and Application (стр. 383-388). (Key Engineering Materials; Том 683). Trans Tech Publications Ltd. https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/KEM.683.383