Properties of WS2 films prepared by magnetron sputtering from a nanostructured target

Y. Irtegov, V. An, P. Vinatier, N. Sochugov, A. Zakharov

Результат исследований: Материалы для книги/типы отчетовМатериалы для конференции

4 Цитирования (Scopus)

Аннотация

Tungsten disulfide films were prepared by magnetron sputtering from a laboratory and a nanostructured targets. The nanostructured target was produced from WS2 nanolamellar particles prepared by self-propagating high-temperature synthesis in argon. The main phase in the films was 2H-WS2. According to the X-ray analysis, the films sputtered from the laboratory target and from the nanostructured one reveal different planes of film growth orientation.

Язык оригиналаАнглийский
Название основной публикацииAdvanced Materials Research
Страницы197-200
Число страниц4
Том872
DOI
СостояниеОпубликовано - 2014
СобытиеRussian-German Forum on Nanotechnology - Tomsk, Российская Федерация
Продолжительность: 21 мая 201324 мая 2013

Серия публикаций

НазваниеAdvanced Materials Research
Том872
ISSN (печатное издание)10226680

Другое

ДругоеRussian-German Forum on Nanotechnology
СтранаРоссийская Федерация
ГородTomsk
Период21.5.1324.5.13

ASJC Scopus subject areas

  • Engineering(all)

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Properties of WS<sub>2</sub> films prepared by magnetron sputtering from a nanostructured target». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

  • Цитировать

    Irtegov, Y., An, V., Vinatier, P., Sochugov, N., & Zakharov, A. (2014). Properties of WS2 films prepared by magnetron sputtering from a nanostructured target. В Advanced Materials Research (Том 872, стр. 197-200). (Advanced Materials Research; Том 872). https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/AMR.872.197