Physicochemical Study of Ta2O5 and SiO2-Ta2O5 Film Formation from Film-Forming Solutions

R. V. Gryaznov, L. P. Borilo, V. V. Kozik, A. G. Mal'chik

    Результат исследований: Материалы для журналаСтатья

    4 Цитирования (Scopus)

    Аннотация

    In order to study physicochemical processes of formation of Ta2O5 and SiO2-Ta2O5 films from film-forming solutions, the properties of these solutions, and also the thermal-oxidative breakdown and the properties of the obtained films, were studied.

    Язык оригиналаАнглийский
    Страницы (с-по)18-20
    Число страниц3
    ЖурналRussian Journal of Applied Chemistry
    Том74
    Номер выпуска1
    DOI
    СостояниеОпубликовано - 2001

    ASJC Scopus subject areas

    • Chemistry (miscellaneous)

    Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Physicochemical Study of Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub> and SiO<sub>2</sub>-Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub> Film Formation from Film-Forming Solutions». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

  • Цитировать