Operation parameters of magnetron diode for high-rate deposition of aluminum films

Результат исследований: Материалы для журнала

Аннотация

This article reports on the results of the detailed study of erosion of Al target in magnetron discharge plasma. It was demonstrated that the combination of middle-frequency (MF) and high impulse power (HiPIMS) power supply results in the significant increase of deposition rates of Al films by changing of sputtering yield. The MF pulse assists HiPIMS discharge to transit in a high power mode.

Язык оригиналаАнглийский
Номер статьи032020
ЖурналJournal of Physics: Conference Series
Том1115
Номер выпуска3
DOI
СостояниеОпубликовано - 27 ноя 2018
Событие6th International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects 2018, EFRE 2018 - Tomsk, Российская Федерация
Продолжительность: 16 сен 201822 сен 2018

ASJC Scopus subject areas

  • Physics and Astronomy(all)

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Operation parameters of magnetron diode for high-rate deposition of aluminum films». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

  • Цитировать