Liquid-Phase Quasi-Epitaxial Growth of Highly Stable, Monolithic UiO-66-NH2 MOF thin Films on Solid Substrates

Tawheed Hashem, Elvia P. Valadez Sánchez, Peter G. Weidler, Hartmut Gliemann, Mohamed H. Alkordi, Christof Wöll

Результат исследований: Материалы для журналаСтатьярецензирование

3 Цитирования (Scopus)

Аннотация

High quality, monolithic UiO-66-NH2 thin films on diverse solid substrates have been prepared via a low temperature liquid phase epitaxy method. The achievement of continuous films with low defect densities and great stability against high temperatures and hot water is proven, clearly outperforming other reported types of MOF thin films.

Язык оригиналаАнглийский
Страницы (с-по)523
Число страниц1
ЖурналChemistryOpen
Том9
Номер выпуска5
DOI
СостояниеОпубликовано - 1 мая 2020
Опубликовано для внешнего пользованияДа

ASJC Scopus subject areas

  • Chemistry(all)

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Liquid-Phase Quasi-Epitaxial Growth of Highly Stable, Monolithic UiO-66-NH<sub>2</sub> MOF thin Films on Solid Substrates». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать