High-frequency short-pulse bias potential as a universal method of ion-beam and plasma treatment of conductive and dielectric materials using vacuum-arc and ablation plasma

Результат исследований: Материалы для книги/типы отчетовМатериалы для конференции

1 Цитирования (Scopus)

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «High-frequency short-pulse bias potential as a universal method of ion-beam and plasma treatment of conductive and dielectric materials using vacuum-arc and ablation plasma». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Engineering & Materials Science

Business & Economics