EUV radiation from plasma of a pseudospark discharge in its different stages

Yu D. Korolev, O. B. Frants, V. G. Geyman, R. V. Ivashov, N. V. Landl, I. A. Shemyakin

    Результат исследований: Материалы для книги/типы отчетовМатериалы для конференции

    1 Цитирования (Scopus)

    Аннотация

    The paper describes the main features of the pulsed low-pressure gas discharge in oxygen and xenon, which burns in typical conditions of EUV source operation. It is shown that in a mode of the superdense glow discharge the electron temperature in the discharge plasma is high enough to provide for generation of EUV radiation without magnetic compression of the plasma column.

    Язык оригиналаАнглийский
    Название основной публикацииProceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
    РедакторыK.A. Valiev, A.A. Orlikovsky
    Страницы16-21
    Число страниц6
    Том5401
    DOI
    СостояниеОпубликовано - 2004
    СобытиеMicro- and Nanoelectronics 2003 - Zvenigorod
    Продолжительность: 6 окт 200310 окт 2003

    Другое

    ДругоеMicro- and Nanoelectronics 2003
    ГородZvenigorod
    Период6.10.0310.10.03

    ASJC Scopus subject areas

    • Electrical and Electronic Engineering
    • Condensed Matter Physics

    Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «EUV radiation from plasma of a pseudospark discharge in its different stages». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

    Цитировать