Effect of post annealing on properties of N-doped TiO2 films deposited by reactive magnetron sputtering

Zhilei Sun, K. E. Evdokimov, M. E. Konishchev, O. S. Kuzmin, V. F. Pichugin

Результат исследования: Материалы для журнала

Аннотация

The paper studies the effect of annealing on the structure and properties of N-doped TiO2 films, deposited by reactive magnetron sputtering. An increase in the annealing temperature results in a reduction of the film thickness and a rise of the refractive index. The post annealing induces the anatase-rutile phase transition and also leads to band gap narrowing and wettability transition.

Язык оригиналаАнглийский
Артикульный номер012083
ЖурналJournal of Physics: Conference Series
Том1281
Номер выпуска1
DOI
Статус публикацииОпубликовано - 12 авг 2019
Событие14th International Conference on Films and Coatings, ICFC 2019 - Saint Petersburg, Российская Федерация
Длительность: 14 мая 201916 мая 2019

    Fingerprint

ASJC Scopus subject areas

  • Physics and Astronomy(all)

Цитировать