Dislocation structure in coarse-grain copper after ion implantation

Yu P. Sharkeev, N. V. Girsova, E. V. Ryabchikov, O. B. Perevalova, E. V. Kozlov, Ya G. Braun, Kh Yao, S. V. Fortuna

Результат исследований: Материалы для журналаСтатья

2 Цитирования (Scopus)

Аннотация

The results of transmission electron microscopic studies of dislocation structure formed in Ti and Zr ion implanted coarse-grain copper are presented. The long-range effect depends sufficiently on phase formation in the alloying layer. The layer microstructure changes in depth are in correlation with the sample microhardness.

Язык оригиналаАнглийский
Страницы (с-по)14-20
Число страниц7
ЖурналFizika i Khimiya Obrabotki Materialov
Номер выпуска4
СостояниеОпубликовано - июл 1996

ASJC Scopus subject areas

  • Materials Science(all)

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Dislocation structure in coarse-grain copper after ion implantation». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

  • Цитировать

    Sharkeev, Y. P., Girsova, N. V., Ryabchikov, E. V., Perevalova, O. B., Kozlov, E. V., Braun, Y. G., Yao, K., & Fortuna, S. V. (1996). Dislocation structure in coarse-grain copper after ion implantation. Fizika i Khimiya Obrabotki Materialov, (4), 14-20.