Discharge in dual magnetron sputtering system

Jindrich Musil, Pavel Baroch

Результат исследований: Материалы для журналаСтатья

34 Цитирования (Scopus)

Аннотация

Dual magnetron sputtering system represents a very effective tool, particularly for reactive magnetron sputtering of insulated thin films. For efficient deposition process, however, it is very important to optimize electrical and magnetic field of the magnetron. Images of plasma discharges at the different magnetic field configuration of the dual magnetron are presented here.

Язык оригиналаАнглийский
Страницы (с-по)338-339
Число страниц2
ЖурналIEEE Transactions on Plasma Science
Том33
Номер выпуска2 I
DOI
СостояниеОпубликовано - 1 апр 2005

ASJC Scopus subject areas

  • Nuclear and High Energy Physics
  • Condensed Matter Physics

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Discharge in dual magnetron sputtering system». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

  • Цитировать