Decrease of ceramic surface resistance by implantation using a vacuum arc metal ion source

K. P. Savkin, A. S. Bugaev, A. G. Nikolaev, E. M. Oks, I. A. Kurzina, M. V. Shandrikov, G. Yu Yushkov, I. G. Brown

    Результат исследований: Материалы для книги/типы отчетовМатериалы для конференции

    1 Цитирования (Scopus)

    Аннотация

    The results of metal ion implantation into alumina ceramic are presented. We show that the of ceramic surface resistivity depends on the metal ion spcies used for the implantation, and decreases with increasing metal ion implantation dose, decreasing by 3-4 orders of magnitude from 1012 Ohm/sq. This approach provides an effective tool for bleeding off accumulated surface charge of ceramic components that can result from interaction with charged particles flows or dielectric polarization. The method can be applied for increasing the maximum electric field hold-off of insulating surfaces in high-voltage devices.

    Язык оригиналаАнглийский
    Название основной публикацииProceedings - International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum, ISDEIV
    Страницы554-557
    Число страниц4
    DOI
    СостояниеОпубликовано - 2012
    Событие25th International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum, ISDEIV 2012 - Tomsk, Российская Федерация
    Продолжительность: 2 сен 20127 сен 2012

    Другое

    Другое25th International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum, ISDEIV 2012
    СтранаРоссийская Федерация
    ГородTomsk
    Период2.9.127.9.12

    ASJC Scopus subject areas

    • Computer Networks and Communications
    • Software

    Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Decrease of ceramic surface resistance by implantation using a vacuum arc metal ion source». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

    Цитировать