Application of Plasmon-Induced Lithography for Creation of a Residual-Free Pattern and Simple Surface Modifications

Roman Elashnikov, Jaromír Háša, Lukáš Děkanovský, Jaroslav Otta, Přemysl Fitl, Václav Švorčík, Oleksiy Lyutakov

Результат исследований: Материалы для журналаСтатьярецензирование

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Application of Plasmon-Induced Lithography for Creation of a Residual-Free Pattern and Simple Surface Modifications». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Chemical Compounds

Engineering & Materials Science