300-keV High-power ion-beam source: Practical applications

O. I. Goncharov, I. F. Isakov, V. N. Kolodii, V. M. Matvienko, M. S. Opekunov, G. E. Remnev, Yury Petrovich Usov, A. N. Zakutayev

Результат исследований: Материалы для книги/типы отчетовМатериалы для конференции

12 Цитирования (Scopus)

Аннотация

A 300-keV high-power ion-beam source has been evaluated. The results obtained are reported. An extra high-voltage pulse was applied to the anode to produce plasma of a certain species content. In particular, accelerator beam was used to prepare 0.01-1 m-thick metallic films.

Язык оригиналаАнглийский
Название основной публикации1990 8th International Conference on High-Power Particle Beams, BEAMS 1990
Страницы1243-1248
Число страниц6
СостояниеОпубликовано - 1990
Событие1990 8th International Conference on High-Power Particle Beams, BEAMS 1990 - Novosibirsk, Российская Федерация
Продолжительность: 2 июл 19905 июл 1990

Другое

Другое1990 8th International Conference on High-Power Particle Beams, BEAMS 1990
СтранаРоссийская Федерация
ГородNovosibirsk
Период2.7.905.7.90

ASJC Scopus subject areas

  • Nuclear and High Energy Physics

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «300-keV High-power ion-beam source: Practical applications». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать