Если Вы внесли какие-либо изменения в Pure, они скоро будут видимы здесь.

Отпечаток Узнайте самые подробные результаты анализа активности Galina Alexeevna Bleykher. Указанные в этом разделе метке относятся к действиям этого человека. Вместе они формируют уникальную картину его активности.

  • 13 Похожие профили
Magnetron sputtering Engineering & Materials Science
magnetron sputtering Physics & Astronomy
Erosion Engineering & Materials Science
erosion Physics & Astronomy
Deposition rates Engineering & Materials Science
Sputtering Engineering & Materials Science
Coatings Engineering & Materials Science
coatings Physics & Astronomy

Сеть Недавняя внешняя коллаборация на уровне стран. Углубитесь в детали нажатием на точки.

Результат исследований 1998 2019

  • 141 Цитирования
  • 8 h-индекс
  • 24 Статья
  • 2 Материалы для конференции
  • 1 Conference article
2 Цитирования (Scopus)

Chromium films deposition by hot target high power pulsed magnetron sputtering: Deposition conditions and film properties

Grudinin, V. A., Bleykher, G. A., Sidelev, D. V., Krivobokov, V. P., Bestetti, M., Vicenzo, A. & Franz, S., 15 окт 2019, В : Surface and Coatings Technology. 375, стр. 352-362 11 стр.

Результат исследований: Материалы для журналаСтатья

Chromium
Magnetron sputtering
chromium
magnetron sputtering
Sublimation

The properties of Cu films deposited by high rate magnetron sputtering from a liquid target

Bleykher, G. A., Yuryeva, A. V., Shabunin, A. S., Sidelev, D. V., Grudinin, V. A. & Yuryev, Y. N., 1 ноя 2019, В : Vacuum. 169, 108914.

Результат исследований: Материалы для журналаСтатья

Magnetron sputtering
magnetron sputtering
Sputtering
Liquids
liquids

Ultra high fluence implantation of aluminum ions into CP–Ti

Ryabchikov, A. I., Shevelev, A. E., Sivin, D. O., Bozhko, I. A., Kashkarov, E. B., Bleykher, G. A., Stepanov, I. B. & Ivanova, A. I., 15 июл 2019, В : Journal of Alloys and Compounds. 793, стр. 604-612 9 стр.

Результат исследований: Материалы для журналаСтатья

Aluminum
Ion implantation
Ions
Titanium
Current density
4 Цитирования (Scopus)

Deposition of Cr films by hot target magnetron sputtering on biased substrates

Sidelev, D. V., Bestetti, M., Bleykher, G. A., Krivobokov, V. P., Grudinin, V. A., Franz, S., Vicenzo, A. & Shanenkova, Y. L., 25 сен 2018, В : Surface and Coatings Technology. 350, стр. 560-568 9 стр.

Результат исследований: Материалы для журналаСтатья

Magnetron sputtering
Deposition rates
magnetron sputtering
Substrates
Sublimation
9 Цитирования (Scopus)

Hot target magnetron sputtering for ferromagnetic films deposition

Sidelev, D. V., Bleykher, G. A., Grudinin, V. A., Krivobokov, V. P., Bestetti, M., Syrtanov, M. S. & Erofeev, E. V., 25 янв 2018, В : Surface and Coatings Technology. 334, стр. 61-70 10 стр.

Результат исследований: Материалы для журналаСтатья

ferromagnetic films
Magnetron sputtering
Sputtering
magnetron sputtering
sputtering